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【2h】

A Platform for Complementary Metal‐Oxide‐Semiconductor Compatible Plasmonics: High Plasmonic Quality Titanium Nitride Thin Films on Si (001) with a MgO Interlayer

机译：互补金属氧化物半导体兼容等离子体的平台：用MgO中间夹层Si（001）的高压质量氮化钛薄膜

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Kai Ding; Dhruv Fomra; Alexander V. Kvit; Hadis Morkoç; Nathaniel Kinsey; Ümit Özgür; Vitaliy Avrutin;
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年度 2021
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