机译:电子回旋共振(ECR)等离子体增强化学气相沉积法沉积氮化硅薄膜的湿法刻蚀研究
机译:分布式电子回旋共振(DECR)反应器中氧对碳化硅等离子体刻蚀动力学的化学贡献
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机译:基于电子的电子快速谐振在CF4 / AR等离子体中的硅的化学辅助等离子体蚀刻
机译:用于电子材料蚀刻的高密度电子回旋共振和感应耦合等离子体源的比较:电子材料的新等离子体蚀刻方案。
机译:从硅工程到多孔硅和硅金属辅助化学刻蚀的纳米线:Ag的大小和作用电子清除率对形貌控制及机理的影响
机译:硅腐蚀中使用的混合气体等离子体中化学过程的建模。第1部分:CF4 / O2用于蚀刻硅的气态混合物等离子体中化学过程的建模。第1部分:CF4 / O2
机译:电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积法研究氮等离子体不稳定性及氮化硅的生长