首页> 外文OA文献 >A split algorithm of manufacturing stencil mask and dividing pattern for making holographic optical elements (Withdrawal Notice)

【2h】

A split algorithm of manufacturing stencil mask and dividing pattern for making holographic optical elements (Withdrawal Notice)

机译：制造模板掩模的分流算法，以及制作全息光学元件的分割图案（提款通知）

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Yuta Aoki; Kunio Sakamoto;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2018
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Complementary mask pattern split for 8 in. stencil masks in electron projection lithography [J] . Hiroshi Yamashita, Kimitoshi Takahashi, Isao Amemiya, Journal of Vacuum Science & Technology. B, Microelectronics Processing and Phenomena . 2002,第6期

机译：电子投影光刻中的8英寸模板掩模的互补掩模图案分割
2. Full Color Image Splitter Based on Holographic Optical Elements for Stereogram Application [J] . Deng, Q.-L., Su, Journal of display technology . 2013,第8期

机译：基于全息光学元件的全彩色图像分离器在立体影像中的应用
3. Methods and algorithms for computer synthesis of holographic elements to obtain a complex impulse response of optical information processing systems based on modern spatial light modulators [J] . Zlokazov E. Yu Quantum electronics . 2020,第7期

机译：基于现代空间光调制器的光学信息处理系统的复合脉冲响应的计算机合成方法和算法
4. New Placement Algorithm of Contact Layer Patterns for NGL Stencil Complementary Masks [C] . Kokoro Kato, Kuninori Nishizawa, Tadao Inoue Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP . 2004

机译：NGL模板互补掩模的接触层图案新放置算法
5. Holographic patterning of polymer dispersed liquid crystal materials for diffractive optical elements [D] . Ramsey, Robert Allan 2006

机译：用于衍射光学元件的聚合物分散液晶材料的全息图样
6. Rapid Stencil Mask Fabrication Enabled One-Step Polymer-Free Graphene Patterning and Direct Transfer for Flexible Graphene Devices [O] . Keong Yong, Ali Ashraf, Pilgyu Kang, -1

机译：快速模板掩膜制造实现了一步式无聚合物石墨烯图案化和柔性石墨烯器件的直接转移
7. Shikumi Lab: origami-inspired positioning and fixing method of photomask for making various holographic optical elements (Withdrawal Notice) [O] . Kyohei Yoshikawa, Kunio Sakamoto 2018

机译：Shikumi Lab：折纸启发定位和定影方法，用于制作各种全息光学元件（取款通知）
8. Pattern Transfer by Dry Etching through Stencil Masks [R] . Pang, S. W., Geis, M. W., Goodhue, W. D., 1988

机译：通过模板掩模进行干蚀刻的图案转移

A split algorithm of manufacturing stencil mask and dividing pattern for making holographic optical elements (Withdrawal Notice)

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅