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机译:聚碳酸酯作为电子束光刻的负色调抗蚀剂
Nan Zheng; Haodi Min; Youwei Jiang; Xing Cheng;
机译:使用紫外线可固化正性电子束光刻胶,通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造
机译:可通过超临界CO2显影正负CVD聚丙烯丙烯酸电子束抗蚀剂
机译:使用PMMA作为正负抗蚀剂的超低压电子束光刻制造的纳米结构的密度倍增
机译:负电子束抗蚀剂的新概念
机译:用于多束电子束光刻的薄膜栅极光阴极。
机译:海藻糖糖醇抗性可通过电子束光刻直接写入蛋白质图案
机译:CsaR 62作为高对比度电子束光刻的负色调抗蚀剂 温度在4 K和室温之间
机译:负电子束光刻技术的组成,包括叠氮化物官能化的聚苯乙烯无规共聚物,能够轻松地通过溶剂控制树脂的厚度
机译:能够生产适用于极紫外光刻或电子束光刻的抗蚀剂组合物的聚合物,以及包括其的抗蚀剂组合物
机译:活化室和套件,用于处理设备中以降低电子亲和力,包含所述成套工具并用于降低电子亲和力的处理设备,光电阴极电子束源,含电子枪的电子枪,含电子阴极的电子电极显微镜,扫描电子显微镜,电子束全息照相术,电子束光刻设备,电子束衍射设备和电子束扫描设备
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