机译:激发频率,温度和氢气稀释对血浆增强化学蒸气稳定性的影响A-Si:H.
机译:氢稀释比对超高频等离子体化学气相沉积沉积氢化纳米晶立方碳化硅膜性能的影响
机译:a-Si:H薄膜晶体管中等离子体增强化学气相沉积膜的氢和氢化问题
机译:等离子体功率对低基底温度下超高频等离子体增强化学气相沉积法沉积氢化纳米晶立方碳化硅薄膜结构的影响
机译:氮,氦,氢或氩稀释对等离子体增强化学气相沉积a-SiN / sub x /:H的影响
机译:等离子体增强了硅薄膜的化学气相沉积:利用等离子体诊断技术表征不同频率和气体成分下的薄膜生长。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:在低衬底温度下通过射频等离子体增强化学气相沉积法沉积的掺杂非晶硅和纳米晶硅的电子和结构性质
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响