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机译:纳米级2.5尺寸表面图案,具有等离子体光刻
Howon Jung; Changhoon Park; Seonghyeon Oh; Jae W. Hahn;
机译:单曝光无掩模等离子光刻技术,用于图案化周期性纳米尺度光栅特征
机译:通过扫描探针光刻和电化学方法在平坦碳表面上进行纳米级图案化
机译:测量两束激光干涉光刻产生的纳米级表面图案
机译:通过电光刻和电印刷光刻进行纳米级蛋白质图案化。
机译:等离子平版印刷术的纳米级2.5维表面构图
机译:在Si和Ge表面上进行微/纳米级制造和构图的通用免光刻方法
机译:制作用于图案化曲面的图案化印章的方法,用于光刻工艺的图案化印章,印刷光刻法,包含图案化的曲面的制品以及用于光刻法的图案化印章的使用
机译:等离子透镜具有表面图案,可提供与线性偏振无关的等离子聚焦和与圆形偏振有关的等离子聚焦
机译:等离子光刻技术用于绘制高纵横比纳米结构
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