Optical Flatness Metrology for 300 mm Silicon Wafers

机译：300毫米硅晶片的光学平坦度计量

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Ulf Griesmann;
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年度 2005
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1. Microdisplay wafer-flatness metrology by optical interferometry [J] . Christopher M.Walker, Mark Handschy Journal of the Society for Information Display . 2001,第3期

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2. SILICON WAFERS: TIGHT MARKET BALANCE FOR 200mm AND 300mm WAFERS [J] . Roskill's Letter from Japan . 2017,第494期

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3. Deep submicron 3D surface metrology for 300 mm wafer characterization using UV coherence microscopy [J] . Paul C. Montgomery, D. Montaner Microelectronic Engineering . 1999,第2a3期

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4. Optical Flatness Metrology for 300 mm Silicon Wafers [C] . Ulf Griesmann, Quandou Wang, Thomas D. Raymond International Conference on Characterization and Metrology for ULSI Technology . 2005

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5. Simulations and Silicon Wafer Compatibility of a Voltage-Controlled Optical Switch Using ITO/NbOx. [D] . Burghardt, Kevin. 2017

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6. Silicon Wafer Functionalization with a Luminescent Tb(III) Coordination Complex: Synthesis Characterization and Application to the Optical Detection of NO in the Gas Phase [O] . Bijal K. Bahuleyan, Kathleen Toussaint, Hervé Rinnert, 2019

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7. Manufacture and Metrology of 300 mm Silicon Wafers with Ultra-Low Thickness Variation [O] . Ulf Griesmann, Quandou Wang, Marc Tricard, 2007

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