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Low Temperature Epitaxial Barium Titanate Thin Film Growth in High Vacuum CVD

机译：低温外延钡钛酸钡薄膜生长高真空CVD

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作者
Michael Reinke; Yury Kuzminykh; Felix Eltes; Stefan Abel; Thomas LaGrange; Antonia Neels; Jean Fompeyrine; Patrik Hoffmann;
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年度 2017
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1. Low Temperature Epitaxial Barium Titanate Thin Film Growth in High Vacuum CVD [J] . Reinke Michael, Kuzminykh Yury, Eltes Felix, Advanced materials interfaces . 2017,第18期

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2. Epitaxial growth of barium titanate thin films at low temperatures by low-energy positive oxygen ion assistance [J] . Ishibashi Y., Ohashi N., Fukunaga O., Solid state ionics . 1998,第1a4期

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3. Novel Low Melting Point Barium and Strontium Precursors for the MOCVD Growth of Barium-Strontium-Titanate Films [J] . Natalia Kuzmina, Irina Malkerova, Andrey Alikhanyan, Chemical vapor deposition: CVD . 2009,第10a12期

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4. EPITAXIAL GROWTH OF SILICON THIN FILMS BY LOW TEMPERATURE RF-PECVD FROM SIF_4/H_2/AR [C] . R. Leal, J.-C. Dornstetter, F. Haddad, European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition . 2014

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