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【2h】

Engineered surfaces to control secondary electron emission for multipactor suppression

机译：设计用于控制多移能器抑制的二次电子发射的表面

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James M. Sattler; Ronald A. Coutu; Robert A. Lake; Tod Laurvick;
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年度 2016
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1. Modeling micro-porous surfaces for secondary electron emission control to suppress multipactor [J] . J. M. Sattler, R. A. Coutu Jr., R. Lake, Journal of Applied Physics . 2017,第5期

机译：模拟微孔表面以控制二次电子发射以抑制多峰效应
2. Electron bunching from a dc-biased, single-surface multipactor with realistically broad energy spectrum and emission angle of secondary electrons [J] . Shin D., Jeon S.-G., Kim J.-I., Physics of plasmas . 2012,第2期

机译：来自直流偏置的单表面多极电子的电子束聚，具有现实的宽能谱和二次电子的发射角
3. Characteristics of secondary electron emission and multipactor from a nested microtrap structure surface [J] . Lu Liu, Guobao Feng, Bangdao Chen, AIP Advances . 2021,第2期

机译：来自嵌套微磨砂结构表面的二次电子发射和多移液的特性
4. Engineered surfaces to control secondary electron emission for multipactor suppression [C] . James M. Sattler, Ronald A. Coutu, Robert A. Lake, Proceedings of the 2016 IEEE National Aerospace and Electronics Conference . 2016

机译：工程化表面可控制二次电子发射，从而抑制多峰效应
5. Computational Modeling of Plasma-Induced Secondary Electron Emission from Micro-Architected Surfaces [D] . Chang, Hsing-Yin 2019

机译：微弧形表面等离子体诱导的二次电子发射的计算模型
6. Roughness Evolution and Charging in Plasma-Based Surface Engineering of Polymeric Substrates: The Effects of Ion Reflection and Secondary Electron Emission [O] . George Memos, Elefterios Lidorikis, George Kokkoris 2018

机译：聚合物基底基于等离子体的表面工程中的粗糙度演变和带电：离子反射和二次电子发射的影响
7. Modeling micro-porous surfaces for secondary electron emission control to suppress multipactor [O] . J. M. Sattler, R. A. Coutu, R. Lake, 2017

机译：用于二次电子排放控制的微多孔表面，以抑制多移膜
8. Engineered Surfaces to Control Secondary Electron Yield for Multipactor Suppression. [R] . Sattler, J. 2017

机译：工程曲面控制多重抑制器的二次电子产率。

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