机译:粗糙度作为表征塑料电镀过程中蚀刻步骤的参数。
机译:连续铜和镍化学镀和铜化学湿法蚀刻制造的镍微针
机译:蚀刻时间和温度对丙烯腈丁二烯苯乙烯(ABS)基质电镀粘附性的影响
机译:微波等离子体表面处理改进镀氟乙烯直接镀铜粘附强度的影响(PTFE)
机译:基于等离子体的铜蚀刻反应过程的研究。
机译:铜干蚀性能的显着改善氮气添加高压氢基等离子体
机译:电子显微镜下吸收胶质塑料粘附的检查及其粘附性
机译:等离子体和离子蚀刻用于失效分析。第2部分。使用Technics Giga Etch 100-E等离子蚀刻系统对塑料封装和其他半导体器件材料进行蚀刻