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机译:使用铜铜和氧化氧化物键合的3D像素集成电路的最新结果
Ray Yarema;
机译:静电耦合和晶片粘合缺陷对整体三维集成电路延迟测试的影响
机译:3D集成电路堆叠硅片中的硅通孔和键合层的电气和机械性能
机译:直接键合互连(DBI®),用于3D和2.5D集成电路中的小间距键合
机译:设计用于3D集成电路中的键合前可测试性。
机译:带有毛细管自组装的氧化物-氧化物热压直接键合技术用于多芯片至晶圆异质3D系统集成
机译:具有毛细管自组装的氧化物氧化物热压直接键合技术,用于多芯片到晶片的异构3D系统集成
机译:具有改进的铜铜键合的三维(3D)集成电路
机译:3D集成电路(IC)层以及相关3D集成电路(3DIC),3DIC处理器内核和方法之间的三维(3D)存储单元分隔
机译:3D集成电路(IC)层以及相关3D集成电路(3DICS),3DIC处理器内核和方法之间的三维(3D)存储单元分隔
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