Diamond Etching Beyond 10 μm with Near-Zero Micromasking

机译：钻石蚀刻超过10μm，具有近零的微掩击

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Marie-Laure Hicks; Alexander C. Pakpour-Tabrizi; Richard B. Jackman;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2019
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Diamond Etching Beyond 10?μm with Near-Zero Micromasking [J] . Marie-Laure Hicks, Alexander C. Pakpour-Tabrizi, Richard B. Jackman Scientific reports. . 2019,第1期

机译：钻石蚀刻超过10？μm，带有近零的微阵列
2. Surface composition and micromasking effect during the etching of amorphous Ge-Sb-Se thin films in SF_6 and SF_6/Ar plasmas [J] . Meyer T., Girard A., Dain G. Le, Applied Surface Science . 2021,第MAYa30期

机译：在SF_6和SF_6 / AR等离子体中蚀刻无定形GE-SB-SE薄膜期间的表面组成和微掩除效果
3. Molecular Mechanism of Etching-Induced Faceting on Si(100): Micromasking Is Not a Prerequisite for Pyramidal Texturing [J] . Skibinski Erik S., Hines Melissa A. The journal of physical chemistry, C. Nanomaterials and interfaces . 2015,第26期

机译：Si（100）上蚀刻诱导刻面的分子机制：微掩膜不是金字塔形纹理化的先决条件
4. Fabrication of Nanoscale SiC-based Ceramic Patterns with Near-zero Residual Layers by Using Imprinting Technique and Reactive Ion Etching [C] . Kyoung-Hoon Park, Jun-Hong Park, Dong-Pyo Kim, International Symposium on Eco-Materials Processing Design . 2006

机译：用压印技术和反应离子蚀刻制造近零残留层的纳米级SiC基陶瓷图案
5. Studies on cleavage fracture and etching of diamond. [D] . Patel, Ambalal Ranchhodbhai. 1958

机译：金刚石的劈裂断裂和蚀刻研究。
6. Diamond Etching Beyond 10 μm with Near-Zero Micromasking [O] . Marie-Laure Hicks, Alexander C. Pakpour-Tabrizi, Richard B. Jackman -1

机译：采用近零微掩膜的金刚石蚀刻超过10μm
7. Realizing the diamond annular groove phase masks for the mid infrared region: five years of successful process development of diamond plasma etching [O] . Forsberg, Pontus, Vargas Catalan, Ernesto, Delacroix, Christian, 2014

机译：实现中红外区域的金刚石环形凹槽相位掩模：金刚石等离子蚀刻成功开发工艺的五年

Diamond Etching Beyond 10 μm with Near-Zero Micromasking

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅