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机译:RF反应溅射制备的ALN薄膜的结构和组成
Shozo Inoue; Hitoshi Uchida; Yoichi Tokunaga; Keiji Koterazawa;
机译:通过射频反应磁控溅射在6H-SiC衬底上以不同的溅射压力制备AlN膜
机译:长距离反应磁控溅射制备AlN薄膜的硬度和微观结构
机译:原位直流偏置对RF磁控反应溅射(BA,SR)TiO {Sub} 3膜的组成,微结构和介电性能的影响
机译:通过多离子束反应溅射沉积的铁电钛酸铅镧薄膜的组成/结构/性质关系。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:反应性射频溅射沉积制备的AlN薄膜的XRD表征
机译:AlN外延晶体,其制造方法,使用晶体,光发射器件,表面声波器件和溅射装置制备III族氮化物薄膜的基本基质
机译:减少通过阴极溅射制备的A-SI:H薄涂层中界面和表面态数目的方法
机译:减少通过反应性阴极溅射制备的氢化非晶硅薄层的表面和界面态数量的方法。
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