机译:通过使用牺牲金属催化剂,直接在绝缘体上直接在图案化的CVD石墨烯的无转移,光刻 - 无需生长
机译:通过使用牺牲金属催化剂,直接在绝缘体上直接在图案化的CVD石墨烯的无转移,光刻 - 无需生长
机译:通过使用牺牲金属催化剂,直接在绝缘体上直接在图案化的CVD石墨烯的无转移,光刻 - 无需生长
机译:绝缘子通过激光辐照过程中的金属催化结晶在绝缘子上的超快石墨烯生长:从激光选择,厚度控制到利用受控层隔离过程的直接图形化石墨烯
机译:使用Co作为牺牲催化剂层的GaN LED Epiwafer上PECVD石墨烯透明电极的直接图案生长
机译:CVD石墨烯的金属氧化物生长,自旋进动测量和拉曼光谱
机译:使用超薄Pt催化剂通过PECVD在GaN LED外延片上生长类似于石墨烯的无转移薄膜用于透明电极应用
机译:建立过渡金属催化剂上石墨烯CVD的一般生长模型