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Erratum: “Surface roughness in XeF etching of a-Si∕c-Si(100) J. Vac. Sci. Technol. A 23, 126 (2005)”

机译：错误：“A-Si / C-Si（100）的XEF蚀刻表面粗糙度J. VAC。 SCI。技术。 A 23,126（2005）“

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A. A. E. Stevens; H. C. W. Beijerinck;
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年度 2006
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Erratum: “Surface roughness in XeF etching of a-Si∕c-Si(100) J. Vac. Sci. Technol. A 23, 126 (2005)”

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