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Capacitance–Frequency Estimates of Border-Trap Densities in Multifin MOS Capacitors

机译：多因素电容器边界陷阱密度的电容频率估计

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Simeng E. Zhao; Rong Jiang; En Xia Zhang; Wenjun Liao; Chundong Liang; Daniel M. Fleetwood; Ronald D. Schrimpf; Robert A. Reed; Dimitri Linten; Jerome Mitard; Nadine Collaert; Sonja Sioncke; Niamh Waldron;
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年度 2018
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