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机译:HFO2薄膜中的铁电性可能的电化学起源
Maya D. Glinchuk; Anna N. Morozovska; Anna Lukowiak; Wiesław Stręk; Maxim V. Silibin; Dmitry V. Karpinsky; Yunseok Kim; Sergei V. Kalinin;
机译:使用Al-掺杂的HFO2薄膜的金属 - 铁电 - 绝缘子 - 半导体栅极叠层的铁电场效应存储器晶体管的长期和高温保留稳定性的改进
机译:外延Si掺杂HFO2薄膜中铁电的起源
机译:HfO2薄膜中的铁电随Zr掺杂的变化
机译:研究工艺参数变化对离子束溅射Sc2O3和HfO2薄膜的材料性能和激光损伤性能的影响。
机译:铁电BiFeO3薄膜应变梯度的巨光学增强及其物理成因。
机译:通过旋转杆和PACBED探测薄膜HFO2中铁电性的起源
机译:具有铁电晶体薄膜和铁电晶体薄膜的生产的铁电晶体薄膜和铁电薄膜元件
机译:制造铁电薄膜和铁电薄膜元件,铁电薄膜结构和铁电薄膜元件
机译:铁电薄膜材料和铁电薄膜材料的制造方式以及使用该铁电薄膜材料的电介质抹布计的制造方式是使用铁电薄膜材料的电介质抹布计的制造方式
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