机译:脉冲磁控溅射合成氮化铜层
机译:高功率脉冲磁控溅射和不平衡磁控溅射技术相结合产生的多层氮化铬/氮化铌涂层的缺陷生长
机译:Fe-Cu合金层的结构取决于两种PAPVD方法的特定特征:脉冲等离子体沉积(IPD)和脉冲磁控溅射(PMS)
机译:铜铟镓二硒化物光伏吸收层的低温单步脉冲直流磁控溅射技术
机译:调制脉冲功率磁控溅射沉积氮化钛和氮化铝钛涂层的摩擦学和结构性能
机译:通过磁控溅射制备具有优异的光催化活性的氮化铜膜
机译:高功率脉冲磁控溅射和不平衡磁控溅射技术相结合产生的多层氮化铬/氮化铌涂层的缺陷生长