Hemicellulose Block Copolymers for Advanced Lithography Process

机译：高级光刻工艺的半纤维素嵌段共聚物

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Kazuyo Morita; Kimiko Yamamoto; Masahiko Harumoto; Yuji Tanaka; Chisayo Nakayama; You Arisawa; Tomohiro Motono; Harold Stokes; Masaya Asai; Charles Pieczulewski;
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年度 2019
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1. Hemicellulose Block Copolymers for Advanced Lithography Process [J] . Morita Kazuyo, Yamamoto Kimiko, Harumoto Masahiko, Journal of Photopolymer Science and Technology . 2019,第3期

机译：高级光刻工艺的半纤维素嵌段共聚物
2. Hemicellulose Block Copolymers for Advanced Lithography Process [J] . Kazuyo Morita, Kimiko Yamamoto, Masahiko Harumoto, Journal of Photopolymer Science and Technology . 2019,第3期

机译：用于高级光刻工艺的半纤维素嵌段共聚物
3. Block Copolymer Lithography: Merging 'Bottom-Up' with 'Top- Down' Processes [J] . Craig J. Hawker, Thomas P. Russell MRS bulletin . 2005,第12期

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4. Hemicellulose block copolymers made from woods for wide-range directed self-assembly lithography enabling wider range of applicable patterning size [C] . Kazuyo Morita, Kimiko Yamamoto Advances in Patterning Materials and Processes XXXIV . 2017

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