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【2h】

Low-NA focused vortex beam lithography for below 100-nm feature size at 405 nm illumination

机译：低NA聚焦涡旋光刻光刻，低于100nm的特征尺寸，405 nm照明

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Myun-Sik Kim; Toralf Scharf; Hans Peter Herzig; Reinhard Voelkel;
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年度 2013
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