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【2h】

Erosion behavior of Y 2 O 3 in fluorine‐based etching plasmas: Orientation dependency and reaction layer formation

机译：Y 2 O 3在氟基蚀刻等离子体中的侵蚀行为：取向依赖性与反应层形成

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Moritz Kindelmann; Mark Stamminger; Nino Schön; Marcin Rasinski; Rüdiger‐A. Eichel; Florian Hausen; Martin Bram; Olivier Guillon;
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年度 2020
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