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机译:磁控溅射厚铍涂层
H. Xu; C. Alford; Eric Chason; A. Detor; T. Fuller; A. Hamza; J. Hayes; K.A. Moreno; A. Nikroo; T. van Buuren; M. Wang; J. Wu; K.P. Youngblood;
机译:离子辅助磁控溅射法制备的厚铍涂层
机译:通过磁控溅射制备的厚CR涂层的微观结构和高温蒸汽氧化特性,用于事故耐燃料包层:偏差在沉积过程中的作用
机译:直流磁控溅射(DCMS)产生的厚Ta(N)涂层的化学计量和摩擦学行为
机译:溅射靶腐蚀及其对长时间直流磁控溅射镀膜的影响
机译:磁控溅射沉积的ZrZr氮化物和Zr-碳氮化物涂层的合成微观结构表征及纳米抑制
机译:通过磁控溅射产生的弥漫性吸收铍涂层
机译:用于通过磁控管的靶涂覆基板的反应磁控溅射,包括:将与磁控管相对的基板布置;通过溅射雾化靶材料;以及将溅射的靶材料沉积到基板上
机译:多层镀膜磁控溅射的轮转式装置和等厚度纳米镀膜磁控溅射的方法
机译:用于多层涂层的磁控溅射的转盘式装置和等厚度纳米涂层的磁控溅射方法
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