机译:低能氩/氢直流等离子体源对Si和SiO2的刻蚀特性
机译:射频磁控管制备的ZnO:Al薄膜的电,结构和蚀刻特性
机译:射频磁控共溅射制备富铝Al_2o_3薄膜的刻蚀速率,透光率和电荷俘获特性
机译:SiO2全氟-2-丁烯(1-C4F8)和六氟丙烯(1-C3F6)的蚀刻特性
机译:电子束生成等离子体中高级抗蚀剂蚀刻的比较。
机译:直流磁控溅射沉积TiO2薄膜的生物相容性和表面性质
机译:根据退火条件,DC磁控溅射制备的NiCr薄膜的微结构和表面特性
机译:射频等离子体中半导体材料的刻蚀特性研究。