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【2h】

Nanoscale etching of III-V semiconductors in acidic hydrogen peroxide solution: GaAs and InP, a striking contrast in surface chemistry

机译：纳米级蚀刻酸性氢过氧化氢溶液中的III-V半导体：GaAs和InP，表面化学中的对比度

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Dennis H. van Dorp; Sophia Arnauts; Mikko Laitinen; Timo Sajavaara; Johan Meersschaut; Thierry Conard; John J. Kelly;
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年度 2019
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