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机译:射溅物溅射衬底磁场附近磁场的影响
Hyun-Soo Kim; Ho-Won Jang; Jong-Yoon Kang; Jin-Sang Kim; Suk-Jin Yoon; Chang-Kyo Kim;
机译:O-2外加剂和溅射压力对RF反应磁控溅射沉积在PET基板上ITO薄膜性能的影响
机译:在低衬底温度下通过射频磁控溅射沉积的Ti:ITO薄膜的透明导电特性
机译:射频叠加直流磁控溅射法沉积在塑料基板上的ITO膜的性能
机译:RF叠加直流磁控溅射法在塑料基板上沉积ITO薄膜的性质
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:氧浓度对超薄射频磁控溅射沉积铟锡氧化物薄膜作为光伏器件上电极的性能的影响
机译:衬底偏压对射频磁控溅射沉积Ti6A14V薄膜晶体结构和表面成分的影响
机译:用于沉积用于涂覆玻璃,塑料膜,金属,电子部件和其他基板的薄层的磁控溅射的方法包括首先用磁场冲击磁控管源和/或部分靶材
机译:用于溅射沉积源的磁性装置,磁控溅射沉积源以及利用磁控溅射沉积源在基板上沉积膜的方法
机译:通过移动与基板相对的目标,在基板表面上形成具有均匀胶片质量的胶片的源,使用该源来进行溅射的装置,以及使用该仪器而进行的溅射方法
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