机译:电子束沉积工艺变量对CrOx薄膜特性的影响
机译:基原子层沉积(ALD)和电子束蒸发(EBE)沉积的Al_2O_3薄膜的组合物在快速热处理时
机译:电子束气相沉积Ta_2O_5薄膜的电学和光学特性
机译:氧化铟透明导电膜的形成过程:电子束加热过程中浸涂膜的原位纳米结构观察
机译:等离子体辅助化学气相沉积工艺变量对非晶碳化硅膜性能的影响。
机译:工艺参数和前驱体脉冲比对原子层沉积La1-xAlxO3薄膜性能的影响
机译:脉冲激光沉积制备Ba(Mg1 / 3Ta2 / 3)O3薄膜的特性及其对Pb(Zr1-xTix)O3薄膜生长的影响
机译:氩气和氢气低压射频等离子体中氯硅烷等离子体变量与si薄膜沉积过程的相关性