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机译:钽薄膜的相位纵向沉积在深度振荡磁控溅射模式下
Fábio Ferreira; Cláudio Sousa; Albano Cavaleiro; André Anders; João Oliveira;
机译:HiPIMS在深振荡磁控溅射(DOMS)模式下定制Ti-Si-N薄膜的纳米结构
机译:磁控溅射沉积钽和氮化钽薄膜:相,硬度和组成分析
机译:磁控溅射沉积氧氮化钽TaOxNy薄膜的多相结构
机译:深振荡磁控溅射沉积钽薄膜的相位调整
机译:磁控溅射合成氮化钽薄膜的表征。
机译:反应磁控溅射沉积TiO2薄膜的光催化性能的途径
机译:基材偏置对诸如深度振动磁控溅射模式下叠层沉积钽涂层的结构和性能的影响
机译:回收高纯度钽,高纯度钽溅射靶以及使用该溅射靶沉积的薄膜的方法
机译:用于沉积用于涂覆玻璃,塑料膜,金属,电子部件和其他基板的薄层的磁控溅射的方法包括首先用磁场冲击磁控管源和/或部分靶材
机译:高速脉冲直接磁控溅射镀膜源沉积低温多晶硅和高功能薄膜的溅射装置
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