机译:在SF6-O2等离子体中形成黑色硅的形成:按需清晰,氧化,去除和蚀刻(核心)序列和黑色硅
机译:黑硅方法XI:SF_6等离子体中的氧脉冲:多灰尘的等离子体会导致硅粗糙并朝硅的无氟碳DRIE
机译:在分子氟气中的等离子体蚀刻料等等离子体蚀刻形成黑色硅特征
机译:低温蚀刻黑硅,用作光学黑
机译:干燥蚀刻黑色硅,表面损坏低:电容耦合等离子体功率低的效果
机译:三氟化氮/乙烯等离子体中的氧化硅和氮化硅蚀刻机理。
机译:背面有黑色硅层的晶体硅太阳能电池的研究
机译:黑硅方法:通过轮廓控制确定深硅沟槽蚀刻中氟基反应离子蚀刻机参数设定的通用方法