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Benchmarking the Use of Heavily-Doped Ge Against Noble Metals for Plasmonics and Sensing in the Mid-Infrared

机译:利用重掺杂的Ge对贵金属的利用进行基准测试,用于等离子体中的等离子体和传感

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摘要

Despite the recent introduction of heavily-doped semiconductors for mid-infrared plasmonics, it still remains an open point whether such materials can compete with noble metals. We employ a whole set of figures of merit to thoroughly assess the use of heavily-doped Ge on Si as a mid-infrared plasmonic material and benchmark it against standard noble metals such as Au. In doing this, we design and model high-performance, CMOS compatible mid-infrared plasmonic sensors based on experimental material data reaching plasma frequencies up to about 1950 cm−1. We demonstrate that plasmonic Ge sensors can provide signal enhancements for vibrational spectroscopy above 3 orders of magnitude, thus representing a viable alternative to noble metals.
机译:尽管最近引入了用于中红外等离子体的重掺杂半导体,但是这种材料是否可以与贵金属竞争仍然是一个开放点。我们使用一整套优点来全面评估Si上重掺杂Ge作为中红外等离子体材料的使用,并将其与标准贵金属(例如Au)进行基准比较。在此过程中,我们基于达到高达约1950 cm-1的等离子体频率的实验材料数据,设计和建模高性能,CMOS兼容的中红外等离子体传感器。我们证明,等离子Ge传感器可以为振动光谱提供3个数量级以上的信号增强,从而代表了贵金属的可行替代品。

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