机译:在极稀的HF溶液中通过电化学刻蚀制备的多孔硅层的光致发光特性
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机译:电化学蚀刻过程中极化照明在多孔硅层中引起的面内折射率各向异性
机译:电化学蚀刻条件对P型多孔硅形成和光致发光性能的影响
机译:电化学蚀刻锗和砷化镓形成的多孔层,用于高能效多结太阳能电池的分裂工程层转移(CELT)应用。
机译:用金属辅助化学蚀刻形成高掺杂多孔Si层的硅衬底的形成与评价
机译:在极稀的HF溶液中通过电化学蚀刻制备的多孔硅层的光致发光特性
机译:可见光致发光多孔siGe的染色蚀刻