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Characterisation of Ga(1-x)In(x)Sb quantum wells (x~0.3) grown on GaAs using AlGaSb interface misfit buffer

机译:使用AlGaSb接口失配缓冲器在GaAs上生长的Ga(1-x)In(x)Sb量子阱(x〜0.3)的表征

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摘要

GaInSb multiple quantum wells (MQW) grown on GaAs using an AlGaSb interface misfit (IMF) metamorphic buffer layer technique exhibit superior infrared photoluminescence (PL) at room temperature compared with MQW grown directly on GaSb. PL emission was obtained in the range from 1.7 μm (4 K) to 1.9 μm (300 K) from Ga1-xInxSb samples containing five compressively strained QW with In content x~0.3. Structural and optical characterisation confirms that the AlGaSb IMF growth technique is promising for the development of photonic devices operating at extended wavelengths based on GaAs substrates.
机译:与直接在GaSb上生长的MQW相比,使用AlGaSb界面失配(IMF)变质缓冲层技术在GaAs上生长的GaInSb多量子阱(MQW)在室温下表现出优异的红外光致发光(PL)。从Ga1-xInxSb样品获得的1.7μm(4 K)到1.9μm(300 K)范围内的PL发射,其中包含五个In含量x〜0.3的压缩应变QW。结构和光学特性证实,AlGaSb IMF生长技术有望用于开发基于GaAs衬底在扩展波长下工作的光子器件。

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