Doped crystals; Epitaxy; Semiconductor devices; Silicon carbides; Substrates; Vapor deposition; Wafers; Fabrication; Polarity; Surface treatment;
机译:热线化学气相沉积法制备微晶立方碳化硅/晶体硅异质结太阳能电池
机译:化学气相渗透/化学气相沉积技术制备纳米多孔碳化硅膜的实验研究与计算机模拟
机译:碳化硅和碳氮化硅薄膜涂层的远程氢微波等离子体化学气相沉积中有机硅前体的反应性
机译:等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)和催化CVD(热线CVD),用于薄膜硅层的高速效力
机译:研究硬质合金切削刀具刀片(硬质合金刀具,化学气相沉积)上化学气相沉积(CVD)金刚石涂层的附着力的机械和物理问题。
机译:CVD石墨烯上等离子增强化学气相沉积法制备的无转移反型石墨烯/硅异质结构
机译:使用甲基三氯硅烷化学气相沉积在轴上碳化硅衬底上外延生长碳化硅