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Process Techniques Study of Integrated Circuits Interim Scientific Report, May 1968 - Feb. 1969

机译：集成电路过程技术研究中期科学报告，1968年5月 - 1969年2月

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作者
Brandewie, J. V.; Eisenberg, P. H.;
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作者单位

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年度 1969
页码 p.1-87
总页数 87
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类
关键词
Crystal defects ; Integrated circuits ; Oxides ; Shear stress ; Capacitors ; Dielectrics ; Thermal cycling tests;

机译：晶体缺陷;集成电路;氧化物;剪切应力;电容器;电介质;热循环测试;

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8. Process techniques study of integrated circuits Interim scientific report, May 1968 - Feb. 1969 [R] . Brandewie, J. V., Eisenberg, P. H. 1969

机译：集成电路工艺技术研究中期科学报告，1968年5月 - 1969年2月

Process Techniques Study of Integrated Circuits Interim Scientific Report, May 1968 - Feb. 1969

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