机译:氢同位素((sup 1)H(sup +),(sup 2)D(sup +),(sup 3)T(sup +))和氦((sup 4)He的溅射产率的计算机模拟和数据汇编(sup +))正常入射时单原子固体的离子影响
Deterium ions; Helium ions; Sputtering; Compiled Data; Computerized Simulation; Ion Beams; Monte Carlo Method; Protons; Solids; Tritium Ions; Tables(data);
机译:正常入射下单分子态离子诱导的溅射产率的能量依赖性
机译:固体离子轰击下自溅射率的计算:计算机仿真与理论
机译:起伏表面,颗粒和大纳米颗粒的形貌效应和单原子离子溅射:溅射产量,有效溅射速率和形貌演变
机译:SOHO / EPHIN仪器对氢和氦同位素的响应的蒙特卡洛模拟
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:在热电流辐射和紫外线刺激下钯的氢同位素产率数据
机译:金属氢化物氢反射的计算机模拟及氢气的溅射
机译:离子诱导溅射的能量依赖性在正常入射时由单原子固体产生