Gallium Arsenides; Etching; Integrated Circuits; Microwave Equipment; Meetings;
机译:使用N2促进钝化的氯ICP蚀刻制造的极高纵横比的GaAs和GaAs / AlGaAs纳米波导
机译:用于GaAs通孔蚀刻应用的具有反应性离子蚀刻系统的新型蚀刻技术
机译:用于GaAs通孔蚀刻应用的具有反应性离子蚀刻系统的新型蚀刻技术
机译:用于InGaP / GaAs双异质结背面接触太阳能电池的通孔蚀刻
机译:用蚀刻和沉积法对二氧化硅接触孔的等离子体蚀刻轮廓进行建模。
机译:通过ICP蚀刻制造和表征黑色GaAs纳米阵列
机译:制造紧密间隔,独立接触的电子孔 Gaas-alGaas异质结构中的双层