Ion Beams; Silicon Carbides; Thin Films; Crystal Structure; Crystallization; Deposition; Ion Beam Targets; Technology Utilization; Thickness; Meetings;
机译:强脉冲电子束烧蚀制备纳米薄膜
机译:激光烧蚀-SrBi_2Ta_2O_9和Bi_4Ti_3O_12薄膜制备双层铁电薄膜
机译:用于薄膜生产的脉冲离子束产生的烧蚀等离子体的形成和扩展
机译:Anaconda离子束发生器烧蚀制备薄膜
机译:脉冲电子束烧蚀制备黄铁矿。
机译:铁磁薄膜中自旋波束的微波激发
机译:脉冲离子束生产的消融等离子体的形成和扩展