Ion Implantation; Silicon; Hydrogen Ions; Helium Ions; Physical Radiation Effects; Lithium; Experimental Data; Meetings; Tables(data);
机译:N +和O +共注入形成绝缘体上硅器件绝缘层的计算机模拟
机译:由O〜+和N +共注入形成的埋藏绝缘层的光学效应和微观结构
机译:蒙特卡洛法研究绝缘体上硅和绝缘体上硅锗金属氧化物场效应晶体管的电热现象
机译:注入损伤在He〜+和H〜+共注入生产绝缘硅膜中的作用
机译:砷化镓中镓/碳和铟/碳共注入引起的损伤的高分辨率三轴X射线衍射研究
机译:软骨细胞和干细胞植入后软骨再生的数学模型– II:共植入的影响
机译:通过He {sup +}和H {sup +}的共同注入,植入损伤在绝缘体上硅薄膜生产中的作用
机译:植入损伤在He(sup +)和H(sup +)共同注入生产绝缘体上硅薄膜中的作用