MOS transistors; Meetings; Isothermal processes; Trapping(Charge particles); Electrons; Irradiations; Annealing; Silicon oxides;
机译:等时退火技术的注意事项:从测量到物理
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机译:使用光抗斑点反射和结光伏测量技术在退火之前和退火之前和之后的超浅植入物的监测测量
机译:连续特性测量技术和基于物理学的霜冻生长控制数学模型。
机译:银退火条件对用于电解池pH测量的电解银/氯化银电极性能的影响
机译:毫米波加热在α-氧化铝烧结和γ-氧化铝退火中的应用(物理,工艺,仪器和测量,JWRI 30周年国际学术研讨会)