机译:硅和二氧化硅混合物中一氧化硅的蒸气压和蒸发系数
机译:使用超薄氧化物-氮化物-氧化物栅极电介质的低压氧化和化学气相沉积形成的高性能0.25 / spl微米/米以下器件
机译:大气压等离子体增强了氧化锌和铝锌氧化物的化学气相沉积
机译:使用低压化学气相沉积氧化物的氮化镓金属-绝缘体-半导体电容器
机译:大气压化学汽相沉积织构化氧化锌,掺杂的二氧化钛和掺杂的氧化锌薄膜。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:硅和二氧化硅混合物中一氧化硅的蒸气压和蒸发系数
机译:硅和二氧化硅混合物中一氧化硅的蒸气压和蒸发系数。