Titanium Alloys; Aluminium Alloys; Castings; Chemical Composition; Chromium Alloys; Current Density; Dendrites; Electric Potential; Electrochemistry; Etching; Inorganic Acids; Microstructure; Molybdenum Alloys; Niobium Alloys; Oxalic Acid; Passivation; Potassium Hydrox;
机译:多重内反射几何学中红外表面吸收光谱法对硅表面电化学刻蚀过程的原位观察红外抗体对硅表面电化学刻蚀过程的原位观察
机译:在硅表面上反射地质素 - 原位硅表面蚀刻工艺中的电化学蚀刻过程的原位观察硅表面蚀刻的电化学蚀刻工艺
机译:真空离子等离子体处理对钛合金植入物电化学腐蚀特性的影响
机译:III-V半导体中的蚀刻机制:磷化铟的电化学蚀刻
机译:用于电化学原子层外延和数字蚀刻的表面电化学反应的表征。
机译:碳布包覆聚吡咯电极的铸件具有较高的电化学性能
机译:蚀刻时间对电化学蚀刻(ECE)制备多孔硅的理想因子和动态电阻的影响
机译:通过铸造,粉末冶金和其他工艺制造钛和钛合金