Microelectronics; Integrated circuits; Silicon carbides; Jfet; Threshold voltage; Metal oxide semiconductors; Junction transistors; Substrates; Bias; Mass spectroscopy; Simulation;
机译:25℃至500℃4H-SiC JFET阈值电压体偏置效应的实验和理论研究
机译:在500℃至700℃的温度下实验观察到的4H-SiC JFET IC的电耐久性
机译:正偏置温度不稳定性中的负阈值电压漂移和掺钇的HfO_2栅介质的负偏置温度不稳定性的正阈值电压漂移的研究
机译:实验观察到的在500°C至700°C下工作的4H-SiC JFET IC的电气耐久性
机译:通过外推型腔室的电离测量,对高压辐射的能量吸收进行实验和理论研究。
机译:高压挖沟和植入4H-SIC垂直JFET的进展