Aluminium; Chromium; Thin Films; Deposits; Interfaces; Layers; Measuring Methods; Reflection; Roughness; Thickness; X Radiation; Metal Films; EDB/360101; EDB/440800;
机译:有机半导体薄膜生长过程中同时进行X射线反射率和光谱学的原位测量
机译:有机半导体薄膜生长过程中同时进行X射线反射率和光谱学的原位测量
机译:反应溅射沉积的氮化锡薄膜的结构:结合X射线光电子能谱,原位X射线反射率和X射线吸收光谱研究
机译:RF磁控溅射沉积过程中五氧化二钽薄膜界面粗糙度的原位X射线反射率测量
机译:X射线反射率钙钛矿薄膜的结构特征
机译:寡聚噻吩薄膜中的相变和单层结构的形成:用原位X射线衍射和电学测量相结合的探索
机译:原位X射线反射率测量薄膜结构演化
机译:薄膜结构演变的原位X射线反射率测量