Semiconductors; Point defects; Electrical properties; Nitrogen; Doping; Silicon carbides; Ukraine;
机译:垂直和平行于重氮掺杂4H-SiC晶体的基底平面的电阻率的退火行为
机译:重氮掺杂4H-SiC球团(000-1)C面上的表面形貌和堆垛层错成核研究
机译:重氮掺杂4H-SiC晶体中基面堆积断层形成的理论研究
机译:n型初生4H-SiC中氮和碳反位相关自然缺陷的电和多频EPR研究
机译:掺杂氟化银的氟化钾辐照单晶中原子银和二价银的EPR研究
机译:具有重掺杂区域的新型4H-SiC MESFET轻微掺杂的区域和绝缘区域
机译:4H-siC / siO2界面缺陷的微观结构和电学活性:氧化多孔siC的EpR研究