Thin films; Chemical vapor deposition; Mathematical models; Control theory; Optimization; Growth(General);
机译:减少HPCVD反应器中的阶次建模和薄膜生长的控制
机译:CVD反应器中物种迁移的降阶模型补偿器控制
机译:在r面蓝宝石衬底上生长的Zn(1-x)CdxO薄膜的微观结构和光学性质:生长温度和样品在MO-CVD反应器中的位置的影响
机译:通过降阶模型对HPCVD反应器中薄膜生长的反馈控制
机译:使用简化的PECVD反应器的Si-Ge-Sn半导体薄膜的生长和表征
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:基于降阶的补偿器控制CVD反应器中薄膜的生长