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DEVELOPMENT OF A LOW-WEIGT MEASURING APPARATUS FOR ELECTRON DENSITIES IN APLASMA

机译:apL电子密度低厚度测量装置的研制

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摘要

Development and characteristics of an instrument which allows to measure the electron density within the limits of about 5-108 -3 •1012 m-3 by impedance measurements on a plasma condenser with variable frequency. Characteristic frequencies, where certain resonances occur in the plasma and the amplitude of those re¬sonances are the test values of this method.

著录项

  • 作者

    K. G.JACOBS; K. RAWER;

  • 作者单位
  • 年度 1963
  • 页码 1-44
  • 总页数 44
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 工业技术;
  • 关键词

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