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Fabrication and Testing of 0.1-micrometer-Linewidth Microgap X-ray Masks

机译：0.1微米线宽microgap X射线掩模的制作和测试

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作者
Schattenburg, M. L.; Early, K.; Ku, Y. C.; Chu, W.; Shepard, M. I.;
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作者单位

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年度 1990
页码
总页数 6
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类工业技术;
关键词
Photolithography; Masks; X rays; Wafers; Reprints;

机译：光刻;掩模; X射线;晶圆;重印;

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