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New growth approach of high-quality oxide thin films for future device applications: independent control of supersaturation and migration

机译:面向未来器件应用的高质量氧化物薄膜的新生长方法:过饱和和迁移的独立控制

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摘要

In this paper we focus on supersaturation and migration of the atomic species involved in the growth of oxide films in order to search for new efficient methods for growth of flat, uniform and precipitate-free complex thin films with high quality.
机译:在本文中,我们关注于氧化物膜生长中涉及的原子种类的过饱和和迁移,以寻求新的有效方法来生长高质量,平坦,均匀和无沉淀的复杂薄膜。

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