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机译:磁控溅射在具有CeO_2缓冲层的Al_2O_3衬底上通过磁控溅射制备的YBa_2Cu_3O_7薄膜的微观结构
机译:磁控溅射在具有CeO_2缓冲层的Al_2O_3衬底上通过磁控溅射制备的YBa_2Cu_3O_7薄膜的微观结构
机译:高频表面声波器件的射频磁控溅射在具有Al_2O_3缓冲层的SiO_2 / Si衬底上沉积ZnO薄膜
机译:磁控溅射溅射气压和射频功率对CeO_2缓冲层表面形貌和EuBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜超导性能的影响
机译:射频磁控溅射Al_2O_3缓冲层对PET衬底上铟锡氧化物薄膜性能的影响
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:通过RF磁控溅射在Si基板上生长的ZnO缓冲层气体气氛的影响