電子線蒸着法による石英基板上へのSrS:Cu薄膜の作製と評価

摘要

青色発光EL素子の高輝度化を目的として、SrS:Cu薄膜を作製した。 作製には電子線蒸着装置を用いた。 アニール温度、基板温度、発光中心Cu{sub}2S濃度を変数として最適条件を調査した。アニール温度の高温化により結晶性が非常に向上した。 基板温度は450℃が、最適であることが分かった。 発光中心濃度の最適値は現在までのところ得られていない。