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机译:シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法
小平行秀; 中山晴貴; 野中尚貴松井知己高橋篤司児玉親亮;
会津大学 コンピュータ理工学部;
東京工業大学 工学院;
キオクシア株式会社;
光リソグラフィ; マスク最適化; 光近接効果補正; シミュレーテッド量子アニーリング;
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